Curvatech

(scienceDaily, 24-agustus-2009) Para ilmuan sedang berusaha mengembangkan metode yang sama dengan reaktor fusi nuklir namun kali ini mereka berusaha mengembangkan “plasma Beam” yang sangat tipis untuk pengembangan proses yang disebut “nanolithography” guna pengembangan chip komputer masa depan.

Teknologi yang ada sekarang masih menggunakan sinar ultra violet untuk menciptakan efek tertentu pada chip komputer teknologi ini disebut “photolithography” dengan cara memproyeksikan pola tertentu pada permukaan material yan peka terhadap cahaya kemudian karena proses kimia maka akan terbentuk pola tertentu.

Teknologi “nanolithography” tentunya sangat dibutuhkan karena mengingat densitas komponen pada chip komputer yang meningkat dua kalinya setiap 18 bulan.

Plasma sendiri sebenarnya adalah gas yang terionisasi atau kadang biasa disebut fase keempat dari material karena sifatnya yang unik maka para ilmuwan sedang mencoba mengembangkan plasma untuk penggunaan teknologi in.

Plasma dapat dikendalikan dengan car pemberian medan magnet di sekitar plasma, maka teknik ini diharapkan dapt memberikan solusi untuk pembutan chip komputer di masa depan.

Lihat Juga Artikel Di bawah ini.

• Nano Silver Antibacterial Produk Unggulan Berbasis Nanoteknologi
• Teknologi mikroskopi baru yang dapat mengamati Sel lebih dekat dan real time
• Nanoteknologi mengantarkan manusia ke dalam dunia terminator
• Workshop Nasional Nanomaterial 2009
• Baterai Kertas mungkin akan menggantikan baterai sekarang
• Suhu Yang lebih Rendah pada Es Skala Nano
• CNT Telah Berhasil Dihasilkan Di UNDIP